Магнетронное распыление

  • 03 окт. 2012 г.
  • 271 Слова
Магнетронное распыление.
Существует большое количество различных реализаций метода ионного распыления, однако в настоящее время широкое распространение получили магнетронные распылительныесистемы (МРС) или магнетроны.
Этот метод нанесения пленок основан на распылении материала за счет бомбардировки поверхности мишени ионами рабочего газа (обычно аргона), образующимися в плазмеаномального тлеющего разряда. Для повышения эффективности ионизации рабочего газа и создания над поверхностью катода-мишени области плотной плазмы разряд возникает в неоднородных скрещенныхэлектрическом и магнитном полях.
Существует большое число разнообразных конструкций магнетронов, отличающихся способом создания магнитного поля, его конфигурации, конструкцией катодного узла игеометрией мишени. Разработаны три базовые конструкции магнетронов: цилиндрическая, планарная и с кольцевым конусообразным катодом (S-Gun). Все три конструкции имеют общие черты:
- магнетрон представляет собойдвухэлектродную распылительную систему, т.е. содержат катод-мишень, изготовленный из распыляемого материала и находящийся под отрицательным потенциалом;
- для формирования плазмы используетсямагнитное поле, линии которого имеют значительную кривизну, проходят через поверхность катода – мишени в зоне действия магнитного поля и должны быть перпендикулярны линиям электрического поля;
- зона разряда(плотной плазмы тлеющего разряда низкого давления) представляет собой замкнутую конфигурацию и локализована над определенным участком поверхности катода – мишени в зоне действия магнитного поля, скоторого и происходит интенсивное распыление материала.
Скорость нанесения пленки в МРС может достигать 100 – 200 нм/с. Кроме того, магнетронные системы эффективно работают при давлениях до 10-2 Па и припостоянном напряжении, что обеспечивает высокую чистоту наносимых пленок. Магнетроны обеспечивают длительный ресурс работы, что позволило их использовать в промышленных установках...
tracking img